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CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器

CVD(Chemical Vapor Deposition)和MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)是兩種常用的化學氣相沉積技術(shù),用于制備薄膜、涂層和納米材料等。

發(fā)布日期:2024-11-12

型號:

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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氫氣發(fā)生器

氫氣發(fā)生器的工作原理基于鈀擴散法純化氫的原理。鈀原子的密集堆積形成了一個微小的結(jié)構(gòu),只有能夠離解的氫原子才能通過鈀管表面。其他元素的原子和分子由于直徑大于鈀原子密集堆積的間隙,無法通過。

發(fā)布日期:2024-11-12

型號:

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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HYDROGEN-30L/50L氫氣發(fā)生器

HYDROGEN-30L/50L氫氣發(fā)生器采用固態(tài)電解質(zhì)(PEM)法產(chǎn)生氫氣。它使用超純凈水作為原料,以固體聚合物為電解質(zhì),貴金屬做電極,并配備有效的除濕裝置。這樣可以降低原始濕度,使氫氣的純度保持穩(wěn)定。

發(fā)布日期:2024-11-12

型號:HYDROGEN-30L/50L

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氣相色譜專用氫氣發(fā)生器-普拉勒(南京)儀器科技有限公司[英國普拉勒]

由于氣相色譜專用氫氣發(fā)生器具備安全、簡便的性能特點,因此可以替代危險的高壓氫氣鋼瓶。氫氣的產(chǎn)生可以根據(jù)需要適時適量進行,從而保持氫氣儲存體積和安全性。

發(fā)布日期:2024-11-12

型號:

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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