半導體專用氫氣發(fā)生器是一種被廣泛認可和接受的氫氣鋼瓶替代方案。一臺氫氣發(fā)生器可以持續(xù)地提供高純度的氫氣來滿足氣相色譜儀工作時的載氣需求，并且投資成本收回周期較短。氫氣發(fā)生器可以提供純度高達99.9999%的氫氣來用作載氣，或者用作燃燒氣來支持某些檢測器的運行。
 

 

　　使用半導體專用氫氣發(fā)生器時，首先需要用原料氫置換系統(tǒng)，從閥3放空，待系統(tǒng)內(nèi)的高純氮置換干凈后，根據(jù)原料氫中的含氫量和所需高純氫量，參照表一數(shù)據(jù)，來選定操作溫度、操作壓力和馳放氣量，然后再通電加熱鈀管，從閥2流出高純氫。
 

　　調(diào)溫方法可以根據(jù)隨機所帶的說明書進行溫度設定。從鈀擴散制得的高純氫到實際獲得的高純氫，還需要置換閥2前管線的一段時間，通常約需2~3小時。由于設備在出廠前都要經(jīng)過產(chǎn)品質(zhì)量檢驗，因此閥1和閥3管線內(nèi)充有高純氮，閥2到管線前那段管線充有高純氮。當設備停止使用時，應先停電，待裝置冷卻后各閥門都關閉再停氣，以便在下次使用時減少置換系統(tǒng)的時間。
 

　　一般來說，在鈀管厚度一定的情況下，進出口壓力差越大，溫度越高，則氫的滲透量越大。但平均壓力以8~3公斤/平方厘米為宜，操作溫度為300~400℃。電壓也應保持在2.3V左右。
 

　　半導體專用氫氣發(fā)生器通過壓縮機對空氣或其他氣體進行壓縮，儲存在儲氣罐中，以便使用。它主要由壓縮機、儲氣罐、過濾器、干燥室等部分組成。具有電解面積大、池溫低、性能好、產(chǎn)氣量大、純度高等優(yōu)點。